碳化硅是一种人工合成的碳化物,碳化硅销售价,分子式为sic。通常是由二氧化硅和碳在通电后2000℃以上的高温下形成的。
化性
当碳化硅材料在空气中加热到1300℃时,在其碳化硅晶体表面开始生成二氧化硅保护层。随着保护层的加厚,阻止了内部碳化硅继续被氧化,这使碳化硅有较好的化性。当温度达到1900k(1627℃)以上时,二氧化硅保护膜开始被破坏,碳化硅氧化作用加剧,所以1900k是碳化硅在含氧化剂气氛下的高温。
1)过滤:将包含碳化硅、硅、杂质及分散液的含硅砂浆过滤,碳化硅价格,得到初步滤除分散液含杂质的碳化硅/硅混合物;
2)残液去除:对初步滤除分散液含杂质的碳化硅/硅混合物进行加热,温度>250℃,重庆碳化硅,使残留的分散液挥发,获得含杂质的碳化硅/硅混合物;
3)酸洗除杂质:将含杂质的碳化硅/硅混合物浸置于酸性溶液或包含有助剂的酸性溶液中,通过酸性溶液溶解碳化硅/硅混合物中的杂质,碳化硅咋用,再过滤去除溶有杂质的酸性溶液,获得初步去除杂质的碳化硅/硅混合物;
碳化硅作为第三代半导体材料的典型代表,也是目前晶体生产技术和器件制造水平成熟,应用广泛的宽禁带半导体材料之一,目前在已经形成了的材料、器件和应用产业链。是高温、高频、抗辐射、大功率应用场合下---理想的半导体材料。由于碳化硅功率器件可---降低电子设备的能耗,因此碳化硅器件也被誉为带动“新能源---”的“绿色能源器件”。
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